国杰研究院新材料研发部成功研制出新型半导体材料——电子级高纯二硫化钼。其制备过程以辉钼矿石为起始原料，先通过矿选加工得到钼精粉，随后采用高精专业的多维度粒子碰撞、生物活化、多维卤化、复配酸化、调和皂化、水萃等一系列高精特新工艺，制得MOCVD电子级二硫化钼。

在现代化工产业中，由高纯二硫化钼制成的润滑剂，以及二硫化钼结合稀土制成的具有耐腐蚀、耐高温、耐盐渍化和自润滑特性的涂料，占据着举足轻重的地位。以二硫化钼制备的钼基催化剂，能够显著提升对氢的吸附与解离能力，从而增强催化活性，加快氢能燃料电池中的电化学反应，其活性甚至超越了传统的铂基催化剂。在电子产业，二硫化钼靶材、电极、晶体管以及芯片基材，均发挥着极为特殊且无可替代的作用。在航空航天领域，发动机部件大量应用钼合金制品，这些部件借助二硫化钼的优异性能，保障发动机稳定运行，为国防事业筑牢了坚不可摧的材料基础。